日本半导体工艺臭氧水生产设备
广泛的适应范围，从浓度到 100ppm，从流速到 60L/min。 可根据各种要求进行定制。
大流量、高浓度的臭氧水生成装置。 欢迎定制。 适合清洗、电阻剥离应用，也是单片式清洗装置的理想选择。
清洁臭氧水，无金属污染
我们不使用金属作为液体接触部分。 可生产出适合半导体清洗的清洁无金属臭氧水。
满足广泛的需求
臭氧水浓度高达 100 ppm，流量从 1L/min 到 60L/min 不等。 我们根据半导体工艺中对臭氧水的各种需求定制设备。
欢迎定制
可根据使用流程和设备进行定制。
主要用途和行业
半导体清洗
液晶制造工艺
太阳能电池清洗
| 型号（示例） | OWF-C45L30P | OWF-C5L30P |
|---|---|---|
| 臭氧水浓度 （臭氧水生成能力） | 高达 100 ppm | 高达 60 ppm |
| 臭氧水流量 （臭氧水生成能力） | 高达 60L/min | 高达 7L/min |
| 臭氧水排放压力 （臭氧水生成能力） | 高达 0.15MPa | 高达 0.20MPa |
| 原料氧条件 | 压力0.3MPa，纯度99.5%以上（CO2或N2调整） | |
| 原料水条件 | 超纯水、纯水、市水，0.25MPa，25°C以下 | |
| 接触臭氧材料 | 石英玻璃，PFA，PTFE，红宝石 | |
| 臭氧生成方法 | 无声放电法 | |
| 放电管冷却系统 | 水冷（内部散热器水冷） | |
| 外形尺寸 | 900W×929D×1881H （不包括突起） | 611W×590D×1317H （不包括突起） |
| 电源 | AC100V±10%,50/60Hz | |
| 功耗 | 5kW | 1kW |
| 外部输入/输出 | 是 | |
| 使用环境 | 气温5~40°C，湿度90%R.H.以下 室内，无结露，尘埃少 | |
