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      日本FA-2000用于半导体工业的臭氧气体发生器

      来源：www.ecovalve.cn 作者：同林臭氧 时间：2024-09-11 11:44

      FA-2000用于半导体工业的臭氧气体发生器

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      优势

      由于我们独特的方法使用石英双管放电单元，清洁和干燥的臭氧气体无金属产生污染物或湿气。

      高浓度臭氧气体由专用电源产生。

      用途

      各种半导体清洗装置

      臭氧灰化装置

      TEOS臭氧- cvd设备

      用于各种半导体的臭氧-水发生器

      放电原理

      FA系列石英双管，电极间有介质，可防止金属粉尘。

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      重金属含量分析

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      高纯度氧源规格

      臭氧放电压力:0.07~0.20MPa

      臭氧浓度:~270g/m(N)

      发电量可调范围:5~100%

      氧气纯度:99.95 ~ 99.9999%

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