美国 beneq TFS 500 ALD反应器（臭氧可?。?/h1>

来源：www.ecovalve.cn 作者：同林臭氧 时间：2023-05-24 11:47

美国 beneq  TFS 500 ALD反应器（臭氧可?。?/strong>

TFS 500 是薄膜镀膜应用中各种用途的理想选择。作为第一个 Beneq 反应器模型，它已被证明是用于深入 ALD 研究和稳健批处理的多功能工具。TFS 500 是多项目环境的理想工具。

TFS 500 可以处理多种类型的基板;晶圆、平面物体、颗粒和多孔散装材料，以及具有高纵横比特征的复杂 3D 物体。它可以进一步配备手动操作的负载锁，以提高晶圆加工能力。不同类型的反应室可以很容易地安装在真空室内，从而可以针对每个客户应用优化每个反应室。

TFS 500既满足工业可靠性的严格要求，又满足研发运营灵活性的需求。工艺组件是现成的物品，可确保备件的可用性。所有前驱体容器都可以在短时间内轻松更换。前驱体准备包括气体、液体和固体材料。为了在前驱体选择方面具有充分的灵活性，我们还增加了 500 °C 热源选项。

自2014年以来，Beneq一直与MBRAUN合作，通过提供交钥匙研发解决方案来满足不断增长的OLED市场需求。此次合作的目标是将 Beneq 突破性薄膜封装技术的公认专业知识与 MBRAUN 的手套箱、定制外壳和独立单元相结合。

参数

工艺类型

热原子层沉积

等离子增强原子层沉积

基板类型

高达 300 mm 的晶圆

高达 370 x 470 mm 玻璃

300 x 420 mm 批量

3D 零件

粉

基板装载

自动

手动

主要尺寸

1600 x 900 x 1930 毫米

集成

手套箱

负载锁定

簇

主要尺寸，电柜（长×宽×高）

1000 × 300 × 1600 mm

工艺温度范围

25 – 500 °C

反应室类型和尺寸

单晶圆： ?200 × 3 （mm） / ?300 × 25 （mm）

单晶圆等离子： ?200 × 3 mm / ?300 × 3 mm

3D/批晶圆：?200 × 170 mm

3D/批次：450 × 300 × 250 mm

粉末： ?80 × 50 mm

太阳能电池批次：156×156毫米，100个

天然气管线

很多 5 个

液体源 （+5 °C 至环境温度）

很多 4 个

热源 HS 300（室温至 300 °C）

很多 4 个

热源 HS 500（室温至 500 °C）

很多 2 个

自选

CCP等离子体源（电容耦合）

手动装载锁定

控制系统

带 PC 用户界面的 PLC 控制

ALD配套臭氧设备

臭氧发生器：Atals H30  

臭氧分解器：F1000

臭氧在线检测仪：3S-J5000

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