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      半导体产业中如何使用臭氧

      来源：www.ecovalve.cn 作者：同林臭氧 时间：2020-05-29 11:56

      半导体产业中如何使用臭氧

      近年来，在半导体工业中，对臭氧应用的兴趣大大增加。迄今为止，已经确立了将臭氧用于清洁晶片的用途。利用了臭氧在水相中氧化有机和金属污染物的事实。
      半导体产业中如何使用臭氧(1)
      臭氧在半导体工业中的应用包括
      +湿法清洁
      +TEOS 
      +CVD 
      +干洗
      +疏水性

      硅片清洗过程中的主要流程，通过臭氧水在硅片表面形成氧化膜，然后利用HF(氟化酸)去除氧化膜，并使用SC1、SC2去除颗粒及金属污染， 很后，再使用臭氧水在硅片表面形成氧化膜，防止硅片表面再受污染。

      北京同林提供高浓度臭氧发生器，臭氧浓度可达300mg/L，臭氧水浓度可50ppm~100ppm。

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