高纯臭氧提供系统
1.工作条件：
工作温度和湿度：工作温度低于32摄氏度，对湿度无要求。
电力要求：要求抗振动，抗干扰。
场地要求：需要不大于8平方米的空间。
2. 设备用途：
2.1 拟购的高纯臭氧提供系统作为氧化物分子束外延系统和激光分子束外延系统的重要组成部分，用于为氧化物分子束外延系统和激光分子束外延系统提供高活性氧来源。
3. 技术规格：
3.1 臭氧发生和存储系统
3.1.1 配备臭氧发生器，输入电压220V/50Hz。
3.1.2优先考虑臭氧发生装置单次 很大供气量大于2g的投标。
3.1.3 具有束流控制系统。
3.1.4具有臭氧泄漏检测系统。
*3.1.5气路采用耐臭氧材质，系统漏率好于1.0E-8 mbar•L/s。
3.1.6优先考虑冷却系统用液氮容器，且带有透视窗口的投标。
3.1.7优先考虑冷凝器内置压力探测器及爆炸监测装置的投标。
3.2. 臭氧注入系统
*3.2.1与真空设备生长腔兼容。
*3.2.2臭氧供气的气压范围：1.0×10-6 Torr ~ 1 Torr；（主腔体积不大于10L，分子泵与主腔之间配有阀门，分子泵抽速大于300L/s的情况）
*3.2.3臭氧供气的气压调节精度：5×10-7 Torr；（主腔体积不大于10L，分子泵与主腔之间配有阀门，分子泵抽速大于300L/s的情况）
3.2.4 定制主腔内真空转接配件与阀门
3.3 控制系统
3.3.1具有控制系统用于过程控制。
3.3.2控制系统具有人机操作界面，操作方便可靠。
4. 产品配置要求：
4.1 高纯臭氧提供装置主体 1台
4.2 备件
4.2.1 1/2 VCR垫片 10个
4.2.2 1/4 VCR垫片
4.2.3 KF25卡箍及中心圈 2套
4.3 其它附属设备 需用户准备nXDS10iC或者nXDS6iC抗腐蚀干泵。
如您对此产品感兴趣，欢迎咨询北京同林在线工程师。
